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半導體烘箱

簡要描述:v高性能無氧烘箱能夠在氧氣濃度低至500ppm的氣氛中,加熱高達500℃的溫度,并對材料進行熱處理

基礎信息

產品型號

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更新時間

2024-10-22

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詳細介紹

v 高性能無氧烘箱能夠在氧氣濃度低至500 ppm 的氣氛中,加熱高達 500℃ 的溫度,并對材料進行熱處理。非常適合各類退火,退應力,和各類抗氧化熱處理

v 含氧控制:500PPM以內

v 溫度范圍:Room temp. +20~500℃

v 控溫精度:±1.0℃

v 溫度均勻性:±2.5%℃

v 升溫時間:RT~ 500℃≤60min

v 容量:可定制


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